OCD5000 光控系统
DLC 光控系统
550 nm
380
600
900
1200
1700 nm
编码器
主轴
KF25
电极 ×2
伞架 · 公转基片架
监控片
● 采集
挡板 ×2
灯泡模块
修正板
蒸发源
蒸发源
真空镀膜室 · 蒸镀直接光控
METAFILM
自动接收模块 · 139×136×152mm
接收镜头可自动调整 · 光斑监测
OCD5000 光控系统主模块 · 大理石基座 C-T 单色仪
入射光纤
光纤耦合透镜
消高级次滤光片轮
入射狭缝(自动 0–2mm)
缝宽 1.00mm
凹面反射镜 M2
反射光栅 G
凹面聚焦镜 M3
翻转镜
出射狭缝 · Si
出射狭缝 · InGaAs
Si 出口 · Si
380–1100nm
InGaAs 出口 · InGaAs
900–1650nm
光栅 1200/600/600LP | f=280mm | 光谱范围 380–1700nm
380
700
1100
1500
1700 nm
监控波长 —
探测器信号 → 上位机
闭环反馈 · 停镀信号 / 切层 / 挡板
上位机 · 光控软件
实时透射率曲线 | 极值判停 | 4 类中断续镀流程
透射率 T
镀膜时间 t
极值 → 停镀
实时读数
监控波长
—
实透过率
—
当前层数
0 / 18
停镀信号
0
心跳
0
镀膜机自动化 · Modbus RTU 闭环
RS232 | 115200 · 8 · 偶 · 1 | 从站 01 | 功能码 03 / 06 / 10
地址 名称 读/写
0 镀膜总层数 读
3 光控当前监控层数 读
4 关键命令完成标识 读
6 停镀信号 读
7 当前层准备好 读
100 切换镀膜层 写
101 镀膜挡板开关 写
102 同步膜系 / 105 续镀 写
RS232 报文(节选)
01 06 00 64 00 01 09 D5
切层
01 06 00 65 00 01 58 15
开挡板
01 06 00 66 00 01 A8 15
同步膜系
01 03 00 06 00 01 64 0B
读停镀
01 06 00 69 00 01 98 16
续镀
心跳:每 0.5s +1,连续 3s 不变即判断光控断开
① 真空室内原位光控
② 光纤耦合 · 单色仪分光
③ 双出口探测器自动切换
④ 透射率极值判停
⑤ Modbus RTU 闭环联动
—
—
PECVD 真空腔 · DLC 沉积
气压 <1.0E-2 Pa · 转盘 3 rpm · 监控片随转盘公转,到光斑处采集一次
光斑
● 采集一次
RF 电极
光源发射
接收镜头
实时膜厚 — nm
光轴 60–80° · 斜反射式
镀膜机触发脉冲
光控机箱
METAFILM-DLC
光源 / 电源模块
宽带准单色光 · 稳定供电
光谱探测模块
P 波 / S 波 / 底噪 · 900–1650 nm
算法主机
柯西色散 + LM 反演 · 厚度 / n / k
总控板 / 硬件接口
外触发 · 判停 · RS232
光控系统 = 机箱 + 外置光路
镀膜机上位机 · 自动化
膜厚仪控制
s 波最大能量
—
mse 反馈
—
实时光控厚度
0.00 nm
监控片位置校准
—
转盘转速
3.0 rpm
转盘角度
0.0°
停镀信号(判停)
0
光纤
RS232
膜层剖面
入射光
1
2
3
n
DLC
Ge 基底
相干光束叠加后沿原路返回
反射率谱 R(λ)
λ 1550 nm
R —
900
1650 nm
膜厚生长 · 厚度–时间
— nm
● 实测点
┄ 圈内预测(按沉积速率外推)
材料色散 · 柯西反演
n
k
n —
k —
柯西 abcde 2.1425/0.0943/−0.0199/0.0100/2.0409
现场验收实测
STDEV — nm
0.196 nm
静态重复性
0.4 nm
判停 PV
已交付
镀膜产线
连续 20 次测量 · 指标 ≤1 nm
PV — nm
3 炉 500.9 / 500.5 / 500.7 nm
暂停
上一幕
下一幕
重播
--
播放
重播
插画与动画逻辑来源
:OCD5000 与 DLC 的图元、渐变、样式、
渲染引擎(含转盘公转、监控片采样、光子沿光路运行、滤光片轮、狭缝联动、翻转镜切换、透射率曲线)
均从对应
*_宣传动画.html
整段移植,按容器加前缀隔离后重新排版。
口径
:OCD5000 380–1700 nm、双出口 Si + InGaAs 自动切换;DLC 900–1650 nm。本页不涉及价格、客户名与标定周期。