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METAFILM-DLC 光控系统

PECVD 类金刚石碳膜 · 镀膜原位光控 ｜ 光谱 900–1650 nm · 检测范围 0–3000 nm · 静态重复性 ±0.5 nm · 炉间重复性 ±1 nm

监控片 Si / Ge ≥2 ″ 光路 斜反射 / 垂直反射 现场实测 重复性优于 1 nm
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METAFILM-DLC 光控系统 · PECVD DLC 原位光控原理动画 — — PECVD 真空腔 · DLC 沉积 气压 <1.0E-2 Pa · 转盘 3 rpm · 监控片随转盘公转，到光斑处采集一次 光斑 ● 采集一次 RF 电极 光源发射 接收镜头 实时膜厚 — nm 光轴 60–80° · 斜反射式 镀膜机触发脉冲 光控机箱 METAFILM-DLC 光源 / 电源模块 宽带准单色光 · 稳定供电 光谱探测模块 P 波 / S 波 / 底噪 · 900–1650 nm 算法主机 柯西色散 + LM 反演 · 厚度 / n / k 总控板 / 硬件接口 外触发 · 判停 · RS232 光控系统 = 机箱 + 外置光路 镀膜机上位机 · 自动化 膜厚仪控制 s 波最大能量 — mse 反馈 — 实时光控厚度 0.00 nm 监控片位置校准 — 转盘转速 3.0 rpm 转盘角度 0.0° 停镀信号（判停） 0 光纤 RS232 膜层剖面 入射光 1 2 3 n DLC Ge 基底 相干光束叠加后沿原路返回 反射率谱 R(λ) λ 1550 nm R — 900 1650 nm 膜厚生长 · 厚度–时间 — nm ● 实测点 ┄ 圈内预测（按沉积速率外推） 材料色散 · 柯西反演 n k n — k — 柯西 abcde 2.1425/0.0943/−0.0199/0.0100/2.0409 现场验收实测 STDEV — nm 0.196 nm 静态重复性 0.4 nm 判停 PV 已交付 镀膜产线 连续 20 次测量 · 指标 ≤1 nm PV — nm 3 炉 500.9 / 500.5 / 500.7 nm

核心技术指标

测量能力

光谱范围900–1650 nm
检测范围0–3000 nm
重复性静态 ±0.5 nm · 炉间 ±1 nm

膜层与色散

监控片Si / Ge，≥2″ 裸片
色散模型柯西 / Tauc-Lorentz
红外表征3–15 μm 透射仿真

系统构成

交付清单工控主机 / 光源 / 镜头 / 软件
光路与采集斜反射 / 垂直反射 · 连续 / 外触发
机台接口RS232 + 停镀信号

交付与服务

交付周期30–60 个工作日
验收标准自动光控重复性 1%
价格按配置定制 · 欢迎垂询

现场实测

0.196 nm静态重复性 · 指标 ≤1 nm
0.4 nm判停重复性 PV · 指标 ≤1 nm
已交付PECVD 纳米镀膜产线

本页动画为原理示意图，实际安装以随机技术文件与现场图纸为准。指标取自《技术协议指标》与《METAFILM-DLC 光控系统说明》。 本页不载具体价格；价格按光路形式、波段与自动化对接范围定制，欢迎垂询。

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